奈米圖案化藍寶石基板

奈米圖案化藍寶石基板

從自動化關鍵零組件的單軸模組,傳動元件,運動控制卡,軟體研發,到自動化設備應用規劃及研發客制,如產業機器人,機器手臂,PCB切割機,SMT制程設備,LED/半導體制程設備,光通訊設備,自動光學檢測AOI設備和椿科技提供一貫且完整的解決方案。

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奈米圖案化藍寶石基板

Nano-Patterned Sapphire
奈米圖案化藍寶石基板
奈米圖案化藍寶石基板
產品資訊
規格
產品資訊

以蝕刻(Etching)方式在藍寶石基板上製作出特定之奈米級微結構。此具有一定週期性的微結構面,可作為優質氮化鎵(GaN)磊晶薄膜成長之載體,為全球廣泛使用之高亮度藍紫光LED用原料。

奈米級圖案化藍寶石(NPSS)優點:

  • 增加LED光萃取率
  • 增強LED電氣性質

 

NPSS 製程與現有 PSS 製程的差異

  • 以奈米壓印(NIP)技術製作均一性良好的次微米級圖案
  • 次微米級圖案可提高乾蝕刻與磊晶之生產力
規格
項目
規格
Orientation
Surface Orientation : C-plain (0001)
Orientation Flat : A-plane (11-20)
Wafer Size
Diameter : 50.8 +/- 0.2 mm
Thickness : 430 +/- 25 mm
Front Surface(Pattern Size)
Pitch: 1000nm
Height: 600nm
Bottom Diameter: 900nm
Arrangement : Trigonal
Back Surface
Finishing : Fine Ground