ナノパターン化サファイヤ基板

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ナノパターン化サファイヤ基板

Nano-Patterned Sapphire
奈米圖案化藍寶石基板
奈米圖案化藍寶石基板
製品情報
仕様
製品情報

サファイヤ基板上にエッチング方式によって特定のナノ構造を作製したもの。一定の微細周期構造を持つものをパターン化サファイヤ基板(PSS)と呼び、高輝度青紫LEDを作製する場合に良質なGaN薄膜の成長用基板として広く用いられている。

ナノパターン化サファイヤ基板(NPSS)のメリット:

  • 良質なGaN薄膜が成長でき、LED発光効率、波長均一性、耐圧の向上
  • LEDチップからの光取り出し効率の向上

 

NPSS製造工程と現行PSS製造工程との差異:

  • パターン作製工程にナノインプリント技術を用い、均一性の高いサブミクロン構造が作製可能
  • 現行のPSSよりパターンサイズが細かく、エッチング工程、GaN成長工程の生産性が大幅に向上する
仕様
項目
仕様
Orientation
Surface Orientation : C-plain (0001)
Orientation Flat : A-plane (11-20)
Wafer Size
Diameter : 50.8 +/- 0.2 mm
Thickness : 430 +/- 25 mm
Front Surface(Pattern Size)
Pitch: 1000nm
Height: 600nm
Bottom Diameter: 900nm
Arrangement : Trigonal
Back Surface
Finishing : Fine Ground