奈米圖案化藍寶石基板(Nano-Patterned Sapphire Substrate, NPSS)

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以蝕刻(Etching)方式在藍寶石基板上製作出特定之奈米級微結構。此具有一定週期性的微結構面,可作為優質氮化鎵(GaN)磊晶薄膜成長之載體,為全球廣泛使用之高亮度藍紫光LED用原料。
奈米級圖案化藍寶石(NPSS)優點:
  • 增加LED光萃取率
  • 增強LED電氣性質

NPSS 製程與現有 PSS 製程的差異
  • 以奈米壓印(NIP)技術製作均一性良好的次微米級圖案
  • 次微米級圖案可提高乾蝕刻與磊晶之生產力
Orientation Surface Orientation : C-plain (0001)
Orientation Flat : A-plane (11-20)
Wafer Size

Diameter : 50.8 +/- 0.2 mm
Thickness : 430 +/- 25 mm

Front Surface(Pattern Size) Pitch: 1000nm
Height: 600nm
Bottom Diameter: 900nm
Arrangement : Trigonal
Back Surface

Finishing : Fine Ground