奈米图案化蓝宝石基板(Nano-Patterned Sapphire Substrate, NPSS)

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以蚀刻(Etching)方式在蓝宝石基板上制作出特定之奈米级微结构。此具有一定周期性的微结构面,可作为优质氮化镓(GaN)磊晶薄膜成长之载体,为全球广泛使用之高亮度蓝紫光LED用原料。
奈米图案化蓝宝石(NPSS)优点:
  • 增加LED光萃取率
  • 增强LED电气性质

NPSS 制程与现有 PSS 制程的差异
  • 以奈米压印(NIP)技术制作均一性良好的次微米级图案
  • 次微米级图案可提高乾蚀刻与磊晶之生产力
Orientation Surface Orientation : C-plain (0001)
Orientation Flat : A-plane (11-20)
Wafer Size

Diameter : 50.8 +/- 0.2 mm
Thickness : 430 +/- 25 mm

Front Surface(Pattern Size) Pitch: 1000nm
Height: 600nm
Bottom Diameter: 900nm
Arrangement : Trigonal
Back Surface

Finishing : Fine Ground